Sådan Beregn Skævhed i Anisotropisk ætsning

Identifikation forskydning - eller misforhold mellem celler - i anisotropisk ætsning kræver en beregningsmetode kaldes " tid erstatning." Dette kan ses , når du løser en algoritme bruges, når der simulerer ætseprocessen af silicium i en EDP ​​, KOH eller TMAH -opløsning. Når Cellular Automata (CA) fremgangsmåde til ætsning simulering anvendes substratet repræsenteret ved individuelle celler , der er indeholdt inde i en krystallinsk gitterstruktur . Instruktioner
1

Skriv ud af ligningen til at bestemme antallet af etch trin. Dette er udtrykt som N (t ) = [M /E ( r) T ] t . En standardværdi på 1 anvendes til T. Værdien af ​​M er et multiplum af E ( r) T. Værdien af ​​E ( s) er [ 0,1] .
2

Skriv ud af ligningen til at bestemme den tilsvarende ætsningsrate af overflademateriale. Dette udtrykkes som: .

E ( s) = M /N ( t) T = M /(M /E ( r) T) T = E ( r) fra p Hvis M er ikke en multipel på E ( r) T, så et misforhold vil opstå, fordi ætsning af den næste celle ikke starter med det samme.
3

Notér for " k ", som bruges til at identificere en etch trin. Det næste etch trin i processen er mærket som k + 1 . Bemærk den tid saldo for en etch trin som Tb (k).
4

Skriv ud af ligningen bruges til at beregne den tid kompensation. Denne ligning udtrykkes som : Hej

M ( k)> E ( r) (T + Tb ( k- 1)

derefter

T ( k ) = T + Tb ( k- 1)

M ( k +1 ) = M ( k) - E ( r) T ( k)

Tb ( k ) = 0

andet

T ( k ) = M ( k) /E ( r)

M ( k +1) = 0

Tb ( k) = T - T ( k)

slutresultatet af tid kompensation metode resultater i en ligning, der udtrykkes som : Hej

E ( s) = M ( k) /T ( k) = E ( s ) for en etch trin k